

針對微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量定制的專用型光譜橢偏儀
一、概述
SE-m 是一款針對半導(dǎo)體行業(yè)定制的微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量的專用型光譜橢偏儀,其采用 1 超小微光斑探測測量技術(shù), 2 定制超快測量速度等技術(shù)。可應(yīng)用透明各類襯底上的減反膜、導(dǎo)電膜等薄膜的n/k/d測量,完美適用于微區(qū)圖形的各種光學(xué)參數(shù)解析。
二、特色功能
■ 可定制光斑尺寸,最小可達(dá)30um;
■ 超快測量,單次測量時(shí)間小于0.5秒 ;
■ 系列配置靈活,支持功能定制設(shè)計(jì);
■ 結(jié)構(gòu)緊湊,更適應(yīng)在線集成測量。
三、測量實(shí)例
微區(qū)圖形結(jié)構(gòu)測量

四、應(yīng)用場景
應(yīng)用于光學(xué)常數(shù)測量,完美適用于各類光學(xué)薄膜等鍍膜檢測應(yīng)用。

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